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cvd化學(xué)氣相沉積實驗爐
cvd化學(xué)氣相沉積實驗爐
產(chǎn)品價格:¥1(人民幣)
  • 規(guī)格:完善
  • 發(fā)貨地:上海
  • 品牌:
  • 最小起訂量:1臺
  • 免費會員
    會員級別:試用會員
    認(rèn)證類型:企業(yè)認(rèn)證
    企業(yè)證件:通過認(rèn)證

    商鋪名稱:昆山艾科迅機(jī)械有限公司

    聯(lián)系人:羅女士(先生)

    聯(lián)系手機(jī):

    固定電話:

    企業(yè)郵箱:2265362702@qq.com

    聯(lián)系地址:生產(chǎn)基地:江蘇省昆山市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)六時涇路28號

    郵編:215301

    聯(lián)系我時,請說是在五金機(jī)電網(wǎng)上看到的,謝謝!

    商品詳情

      cvd化學(xué)氣相沉積實驗爐

       

      cvd化學(xué)氣相沉積實驗爐:多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成,可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn)(有雙溫區(qū)、三溫區(qū)、多溫區(qū)),可預(yù)抽真空(有高真空、低真空),通多種氣氛(供氣系統(tǒng)有質(zhì)子流量控制器和浮子流量控制器)。真空泵、閥均采用進(jìn)口設(shè)備,性能可靠。控制電路選用模糊PID程控技術(shù),具有控溫精度高,溫沖幅度小,性能可靠,簡單易操作等特點。CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)等實驗。

       

      cvd化學(xué)氣相沉積實驗爐技術(shù)參數(shù):

      真空管式爐:

      爐管尺寸:外徑Φ50Φ60Φ80Φ100×1000mm

      極限溫度:1200 ℃ 工作溫度:≤1150 ℃

      溫度控制器:PID自動控制晶閘管(可控硅)輸出功率,30段可編程控制器

      最快升&降溫速率:20℃/min

      加熱區(qū):400mm恒溫區(qū):200mm

      控溫精度:±1 ℃電源:單相220V,交流50Hz

       

      多通道流量計控制系統(tǒng):

      標(biāo)準(zhǔn)量程:100200200500SCCM(以氮氣標(biāo)定,除以上標(biāo)準(zhǔn)外量程可選)

      準(zhǔn)確度:±1.5%工作壓差范圍:0.10.5 MPa最大壓力:3MPa接頭類型:Φ6雙卡套不銹鋼接頭

       

      高真空真空泵組:

      干濕:完全無油的干式高真空真空泵組

      分子泵抽速61L/s  

      工作電流:220V

      進(jìn)氣口DN63  ISO-K

      極限總壓5.0×10-4Pa    10-6mabr

       

    0571-87774297  
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