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商品詳情
PDC-32G-2Harrick 基本型等離子清洗機的詳細資料
等離子清洗機采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使有機污染物被徹底地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清洗程度達到分子級。
基本型等離子清洗機廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域。
基本型等離子清洗機應用：
1. 高分子材料表面修飾。
2. 清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
3. 移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質。
4. 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
5. 清洗半導體元件、印刷線路板。
6. 清洗生物芯片、微流控芯片。
7. 清洗沉積凝膠的基片。
8. 清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
9. 牙科材料、人造移植物、醫療器械的消毒和殺菌。
10. 改善粘接光學元件、光纖、生物醫學材料、宇航材料等所用膠水的
粘和力。
基本型等離子清洗機
http://www.first-nano.com/SonList-1417835.html
http://www.chem17.com/st326752/erlist_1417835.html
等離子清洗機采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使有機污染物被徹底地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清洗程度達到分子級。
基本型等離子清洗機廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域。
基本型等離子清洗機應用：
1. 高分子材料表面修飾。
2. 清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
3. 移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質。
4. 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
5. 清洗半導體元件、印刷線路板。
6. 清洗生物芯片、微流控芯片。
7. 清洗沉積凝膠的基片。
8. 清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
9. 牙科材料、人造移植物、醫療器械的消毒和殺菌。
10. 改善粘接光學元件、光纖、生物醫學材料、宇航材料等所用膠水的
粘和力。
基本型等離子清洗機
http://www.first-nano.com/SonList-1417835.html
http://www.chem17.com/st326752/erlist_1417835.html
