商鋪名稱：伯東企業(yè)(上海)有限公司
聯(lián)系人：羅（先生）
聯(lián)系手機：
固定電話：
企業(yè)郵箱：marketing@hakuto-vacuum.cn
聯(lián)系地址：上海市浦東新區(qū)新金橋路1888號36號樓7樓702室 201206
郵編：
聯(lián)系我時，請說是在五金機電網上看到的，謝謝！
因產品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準
上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 100, 離子束可聚焦, 平行, 散射.
KRI 射頻離子源屬于大面積射頻離子源, 離子束流: >350 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 流量(Typical flow):5-30 sccm
采用射頻技術產生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長.
離子源采用模塊化設計, 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝.
適用于離子濺鍍和離子蝕刻, 實現(xiàn)完美的薄膜特性. 在離子刻蝕工藝中, 離子源與離子光學配合, 蝕刻更均勻.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 100 技術參數(shù):
|
型號 |
RFICP 100 |
|
Discharge |
RFICP 射頻 |
|
離子束流 |
>350 mA |
|
離子動能 |
100-1200 V |
|
柵極直徑 |
10 cm Φ |
|
離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
|
流量 |
5-30 sccm |
|
通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型壓力 |
< 0.5m Torr |
|
長度 |
23.5 cm |
|
直徑 |
19.1 cm |
|
中和器 |
LFN 2000 |
* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量
伯東KRI 考夫曼離子源 RFICP 100 應用領域:
1. 預清洗
2. 表面改性
3. 輔助鍍膜(光學鍍膜) IBAD,
4. 濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
5. 離子濺射沉積和多層結構 IBSD
6. 離子蝕刻 IBE
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡方式:
上海伯東: 羅先生 臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯東版權所有, 翻拷必究!
