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在紅外光學系統中, 由于常用的鍺硅等材料折射率高, 反射損失大, 因此對紅外光學元件表面鍍增透膜是一項常規性的工作. 通常使用環境惡劣, 對元件除要求有較高的光學性能外, 還希望具有較好的耐環境的能力, 以適應環境變化, 保持系統的光機性能穩定.
傳統蒸發技術的缺陷:
在傳統的蒸發技術中, 凝聚粒子的能力低, 熱蒸發薄膜的堆積密度較低, 具有明顯的柱狀結構, 造成膜本身不穩定, 光機性能蛻變、降低.
離子輔助沉積技術, 能夠改善薄膜的性能, 高的堆積密度, 改善了膜的光機性能.
通常的離子束源出口半徑小, 離子束流有方向性且大小有限,使得達到被轟擊表面的離子束流均勻性差, 轟擊角不一致, 導致薄膜的均勻性差, 可利用的沉積面積有限, 甚至在有些情形, 沉積的薄膜層僅在沉積過程中受到不連續的輻照, 并非完全的離子輔助沉積薄膜.
美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 輔助沉積高性能紅外增透膜優勢:
伯東美國 KRI 離子源克服了通常的離子束輔助鍍膜技術的缺陷, 成為一種實用的離子輔助鍍膜手段, 已經廣泛運用于大型光學鍍膜系統上.
為了獲得大面積均勻、性能優異的紅外光學薄膜, 增強其耐久性, 使膜層的機械性的紅外增透膜, 某國內光學薄膜制造商采用伯東美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 用于輔助鍍膜.
美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 產品特點：
1. 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應用.
2. 離子束流: >650 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 (Typical flow): 2-30 sccm.
3. 加熱燈絲產生電子, 增強設計輸出高質量, 穩定的電子流.
4. 離子源采用模塊化設計, 方便清潔/ 保養/ 維修/ 安裝.
5. 無需水冷, 降低安裝要求并排除腔體漏水的幾率, 雙陰極設計.
為了獲得更好的膜層, 離子源輔助鍍膜需要在真空環境下進行, 因此鍍膜腔體需要將真空度抽至8x10-4 Pa, 該光學薄膜制造商采用普發 Pfeiffer Hipace 80 對鍍膜腔體進行抽真空.
渦輪分子泵 HiPace 80 技術參數
|
分子泵型號 |
接口 DN |
抽速 l/s |
壓縮比 |
最高啟動壓強mbar |
極限壓力 |
全轉速氣體流量hPa l/s |
啟動時間 |
重量 |
|||
|
進氣口 |
排氣口 |
氮氣 |
氦氣He |
氫氣 H2 |
氮氣 |
氮氣N2 |
hPa |
氮氣N2 |
min |
kg |
|
|
HiPace 80 |
63 |
16 |
67 |
58 |
48 |
> 1X1011 |
22 |
< 1X10–7 |
1.3 |
1.75 |
2.4 |
美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 輔助沉積高性能紅外增透膜實際運用結果:
用伯東美國 KRI 離子源輔助沉積的紅外增透膜, 其光學性能和機械性能均較優異, 增強其耐久性, 完全滿足一般紅外光學系統的要求, 且可以制備大面積均勻的膜層, 達到共贏生產規模.
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
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