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鈦金屬具有許多優(yōu)異的性能, 例如低密度/ 高熔點(diǎn)/ 耐腐蝕/ 無磁性和硅基襯底結(jié)合力好/ 具有形狀記憶和吸氫特性等, 因此對于磁控濺射沉積鈦薄膜的研究有很多.
上海某大學(xué)研究室在多層鈦膜做微觀結(jié)構(gòu)的研究中采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 濺射沉積鈦薄膜做加熱電路提高器件溫度,從而提高光波導(dǎo)器件中硅材料的折射率.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):
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離子源型號 |
RFICP220 |
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Discharge |
RFICP 射頻 |
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離子束流 |
>800 mA |
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離子動能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
20 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
10-40 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長度 |
30 cm |
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直徑 |
41 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量
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KRI 離子源的獨(dú)特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能, 增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無法實(shí)現(xiàn)的.
因此, 該研究項(xiàng)目才采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射沉積工藝.
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī), 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的代理商.
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