商鋪名稱：伯東企業(上海)有限公司
聯系人：羅（先生）
聯系手機：
固定電話：
企業郵箱：marketing@hakuto-vacuum.cn
聯系地址：上海市浦東新區新金橋路1888號36號樓7樓702室 201206
郵編：
聯系我時，請說是在五金機電網上看到的，謝謝！
在進行鍍膜等工藝之前, 對原樣品的表面平整度/潔凈程度等參數會有不同的要求. 對于不達標的樣品需要進行前處理, KRI霍爾離子源可以很好的解決這類的問題.
應用KRI霍爾離子源可以在低功耗的情況下進行大電流的工作, 很好的處理樣品的清潔度/和平整度; 可以根據不同的工藝要求來控制樣品表面的光滑/粗糙程度; 一致且可靠地去除表面污染物, 以暴露原始基材, 達到清洗前處理的作用.
穩定工藝并提高產品產量. KRI離子源清洗在在真空室中進行, 基板表面清潔后可以立即沉積, 短停留時間暴露于真空背景清潔并活化基材表面比輝光放電更清潔, 生產率更高; 無需基板偏置/無需高壓, 消除了大多數腔室壁的濺射, 沒有額外的抽空, 很好地提高了整體工藝的效率與質量.
中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司客戶選用KRI EH1000型霍爾離子源組裝磁控濺射設備對聚氨酯類的材料進行清洗前處理.
離子源清洗樣品的示意圖：
KRI 霍爾離子源 eH 1000 特性:
? 可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時, 最大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
? 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
? 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統; 安裝方便; 無需水冷
? 高效的等離子轉換和穩定的功率控制
KRI 霍爾離子源 eH 1000 技術參數:
|
型號 |
eH1000 / eH1000L / eH1000x02/ eH1000LEHO |
|
供電 |
DC magnetic confinement |
|
- 電壓 |
40-300V VDC |
|
- 離子源直徑 |
~ 5 cm |
|
- 陽極結構 |
模塊化 |
|
電源控制 |
eHx-30010A |
|
配置 |
- |
|
- 陰極中和器 |
Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode |
|
- 離子束發散角度 |
> 45° (hwhm) |
|
- 陽極 |
標準或 Grooved |
|
- 水冷 |
前板水冷 |
|
- 底座 |
移動或快接法蘭 |
|
- 高度 |
4.0' |
|
- 直徑 |
5.7' |
|
- 加工材料 |
金屬 |
|
- 工藝氣體 |
Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors |
|
- 安裝距離 |
10-36” |
|
- 自動控制 |
控制4種氣體 |
* 可選: 可調角度的支架; Sidewinder
上海伯東是美國 考夫曼離子源在中國的總代理商.
上海伯東是德國 Pfeiffer 真空設備, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
我們真誠期待與您的合作！
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式：
上海伯東: 葉小姐
臺灣伯東: 王小姐
T: +86-21-5046-3511 ext 109
T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490
F: +886-3-567-0049
M: +86 1391-883-7267
M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-vacuum.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
上海伯東版權所有, 翻拷必究!
