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偏振光觀測的新標準
奧林巴斯BX53-P偏光顯微鏡結合了UIS2無限遠校正光學元件和獨特的光學設計，在偏振光應用中具有卓越的性能。擴展的兼容補償器產品線使BX53-P顯微鏡具有足夠的多功能性，可以處理幾乎任何領域的觀察和測量應用。
UIS2 光學器件提供出色的可擴展性
UIS2光學系統最大限度地發揮了無限遠校正的優勢，有助于防止光學顯微鏡性能的下降，并消除放大因子，即使在光路中引入偏振元件（如分析儀、色板或補償器）也是如此。BX53-P顯微鏡還接受可用于BX3系列顯微鏡以及相機和成像系統的中間附件。
石英閃長石中斜長石的帶狀結構。*刻度表示樣品的實際大小
MBBA的光學紋理 *刻度表示樣品的實際尺寸
Bertrand 透鏡用于錐鏡和正射鏡觀察
使用錐光觀察附件，可以在正射觀察和錐光觀察之間切換非常簡單。它是可聚焦的，用于觀察清晰的后焦平面干涉圖案。Bertrand 鏡頭可對焦，可清晰地觀看后焦平面干涉圖案。視場光闌可以始終如一地獲得清晰的錐光圖像。
種類繁多的補償器和波片
有六種不同的補償器可用于測量巖石和礦物薄片中的雙折射。測量延遲水平范圍為 0 至 20λ。為了便于測量和高圖像對比度，可以使用 Berek 和 Senarmont補償器，這改變了整個視場的延遲水平。
補償器的測量范圍
| 補償器 | 測量范圍 | 應用 |
|---|---|---|
|
厚兵營 （U-CTB） |
0–11000 納米 （20λ） |
高阻滯水平（R*>3λ）的測量（晶體、大分子、纖維等） |
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軍營 （U-CBE） |
0–1640 納米 （3λ） |
延遲水平的測量（晶體、大分子、生物體等） |
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Senarmont 補償器 （U-CSE） |
0–546 納米 （1λ） |
延遲水平的測量（晶體、活生物體等）; 增強圖像對比度（生物體等） |
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Brace-Koehler 補償器1/10λ （U-CBR1） |
0–55 納米 （1/10λ） |
低延遲水平（活生物體等）的測量 |
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Brace-Koehler 補償器1/30λ （U-CBE2） |
0–20 納米 （1/30λ） |
圖像對比度的測量（生物體等） |
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石英楔 （U-CWE2） |
500–2200 納米 （4λ） |
延遲水平（晶體、大分子等）的近似測量 |
*R = 延遲水平
為了更準確地測量，我們建議將補償器（U-CWE2 除外）與干擾過濾器 45-IF546 一起使用
最小應變光學元件
我們的偏振光物鏡將內部應變降至低。這意味著更高的EF值，從而產生出色的圖像對比度。
堅固而精確的旋轉平臺
安裝在旋轉臺上的旋轉對中機構使試樣能夠平穩旋轉。此外，每 45 度都有一個咔嗒停止機構，用于精確測量。通過可選的雙機械載物臺，可以進行隱蔽的 X-Y 運動。
每一次發現都始于揭開未知世界的神秘面紗。一個多世紀以來，作為奧林巴斯，我們推動了卓越光學技術的發展，助力世界頂尖的科學家、醫生和工程師看得更清、了解更多、成就更多。
我們助力諾貝爾獎獲獎研究順利進行，推動了拯救生命的醫學進步，保障了提升人們日常生活水平的產品和技術的完整性和安全性。我們為開創性研究提供支持，提高了臨床洞察力，推動了精準工業應用的發展。
如今，作為Evident，我們在百年卓越光學傳統的基礎上，不斷創新，打造出新一代微觀成像解決方案——將享譽全球的光學技術與尖端數字創新相結合，助力您從普通觀察升華到深刻洞察，信心十足地實現科學突破。
我們的生命科學產品組合支持研究、臨床診斷和教育，提供全面的成像方法，從基本的明場和暗場顯微鏡到先進的熒光、4D分析和數字病理學顯微鏡，應有盡有。在工業顯微鏡領域，我們通過激光掃描顯微鏡、數碼顯微鏡和半導體顯微鏡提供高水平的精確度和靈活性，這些顯微鏡可用于完成從常規檢測到復雜的質量控制和精密的制造分析等各種任務。
Evident總部位于東京，在日本、美國、德國和中國設有研發和制造中心，在世界各地設有運營機構和專門的銷售和服務中心。
在Evident，我們正在為顯微鏡技術的發展開辟一條新的道路。我們正在幫助客戶邁向一個全新的探索時代。我們正在不斷突破光學技術的界限，推動科學探索，讓看不見的世界變得清晰可見。
