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HX-4407 硅片清洗劑
馬鞍山煥新環(huán)保科技有限公司 型號:HX-4407
一、產(chǎn)品簡介 :
硅片清洗劑是我公司生產(chǎn)的新一代半導體單晶片外延工藝或擴散工藝前專用清洗劑。它利用化學剝離的原理有效將鍵入在硅片表面的顆粒、有機物、金屬離子等污染物去除。清洗劑中的活性物質(zhì)可以吸附在硅片表面,使其長期處于易清洗的物理吸附狀態(tài)(>120小時),而不像難清洗的化學吸附狀態(tài)轉(zhuǎn)化,并在表面形成保護層,防止顆粒的二次吸附,實現(xiàn)了把有害吸附轉(zhuǎn)化為無害吸附。能有效提高外延或擴散工序的成品率。
二、主要特點:
硅片清洗劑中含有具有13個螯合環(huán)的無金屬離子螯合劑,對幾十種金屬離子有很強的螯合作用,防止了堿、重金屬離子對硅片沾污而影響器件的電學特性,便于制備高純的半導體襯底鏡面。清洗劑濃縮度高,可稀釋20-50倍,而且該產(chǎn)品粘度低、高效、環(huán)保、無毒、無腐蝕
三、主要用途:用于半導體硅器件、薄膜技術(shù)中的玻璃和金屬表面浸漬、噴淋、超聲波的清洗。
四、 技術(shù)指標:
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序號 |
項 目 |
指 標 |
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1 |
外 觀 |
無色至微黃色液體 |
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2 |
配 比 |
2-5% |
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3 |
PH |
大于10 |
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4 |
建議工作溫度 |
45-55℃ |
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5 |
處理時間(min) |
浸:15~20 噴:10-15 超聲波10-15 |
五. 注意事項:
5.1清洗后的工件在轉(zhuǎn)入下道工序前,應(yīng)充分水洗。
5.2工作使用時,應(yīng)每當6小時檢測一次PH,并及時添加本劑,以保證工作液的效果。
5.3該液呈中性,不可食用,操作員應(yīng)減少皮膚或眼睛接觸,若有接觸,立即用大量水沖洗十分鐘。
5.4本品庫存時,可能有輕微沉淀現(xiàn)象,不影響處理質(zhì)量,加入時攪拌均勻即可。
5.5、避免金屬、顆粒污染。避免強電解質(zhì)的接觸
六. 包裝、儲運:
25kg或35kg塑料桶包裝,儲存于陰涼干燥處,運輸時桶口向上,防止泄漏。
運輸與存放溫度為5℃~50℃。存放時應(yīng)避光,以避免變質(zhì)
本劑保質(zhì)期為一年。按一般普通無危險化學品運輸。
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