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商品詳情
- 核心材質：專屬193nm工況LD-C級單晶CaF?，專為深紫外激光場景量身定制，雜質含量極低、光學均勻性出色，性能全面碾壓普通氟化鈣材料
- 晶體取向：搭載行業黃金<111>結晶取向，高效抑制應力雙折射，實現光路零畸變穩定傳輸
- 外形尺寸：75.0mm×52.0mm×3.8mm 雙面平晶結構，適配矩形光路窗口、濾光基底、激光傳輸平板等絕大多數主流安裝場景
- 尺寸公差：全維度±0.1mm高精度公差，裝配貼合度拉滿，徹底規避尺寸偏差導致的光路偏移、設備裝配故障等問題
- 表面品質：精細研磨工藝打造，表面粗糙度Rq 2μm，平整度與結構穩定性在線，輕松適配各類精密光學工況
- 防護工藝：標配0.8mm防護倒角，從根源杜絕元件邊緣崩邊、開裂問題，提升抗沖擊能力與使用壽命，適配工業長期量產高頻使用場景
一、產品核心亮點
1. 黃金<111>晶向，實現近乎零畸變光路
一、產品核心亮點
<111>晶向是氟化鈣深紫外光學應用的黃金取向，沒有之一。Hellma依托精準溫場單晶生長工藝，打造出規整度極高的<111>結晶結構，自帶超低應力雙折射核心優勢。能夠最大程度抑制波前畸變、偏振偏移問題，完美適配193nm高精度成像與激光傳輸需求，助力光學系統拉滿衍射極限成像性能，是高端光刻、精密檢測設備的核心性能底氣。
2. LD-C級定制基材，專治193nm激光工況
這款元件搭載Hellma專屬LD-C級高純CaF?單晶，是實打實的193nm ArF準分子激光工況定制款。對比普通氟化鈣材料，它擁有深紫外高透過率、超低背景熒光、超低色散三大硬核優勢，大幅減少光能損耗與雜光干擾。同時晶體內部缺陷極少，抗激光輻照能力拉滿，長期高頻激光照射也不會出現材料老化、光斑失真問題，耐久性能遠超行業通用標準。
3. 精工打磨工藝，精度與耐用性雙在線
產品雙面采用精密平晶研磨工藝，Rq 2μm的優質表面質感，有效減少光線散射、折射偏差，穩穩適配工業精密光學使用需求。搭配0.8mm標準化防護倒角，優化邊角力學結構，完美解決光學元件運輸、裝配、使用過程中易崩邊、易開裂的通病，大幅提升產品良品率與運行穩定性，適配工業化批量落地應用。
4. 高兼容精密尺寸，適配模塊化量產集成
全尺寸±0.1mm精密公差+規整矩形平晶結構，兼容性直接拉滿！可無縫適配各類標準化光學模組、激光設備、半導體檢測儀器，到手即可裝配，無需二次加工，大幅降低設備裝配與調試成本，適配自動化量產生產線，落地效率超高。
二、標準化精密核心參數
Hellma這款CaF?矩形光學毛坯件（CaF2-Rohteil），采用高純單晶氟化鈣原料，經過高精度晶體生長+超精密加工工藝打造而成，參數精準、適配度拉滿，無需復雜二次加工，可直接用于工業精密裝配與光學系統集成，核心規格一目了然：
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