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濺射是制備薄膜材料的主要技術之一，它利用離子源產生的離子，在真空中經過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、記錄介質、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。
公司是一家真空蒸鍍與磁控濺射應用材料解決方案提供商。專業致力于技術研發生產和銷售高純金屬蒸鍍材料：低功函數金屬材料金屬鐿Yb、鎂、銀;磁控濺射靶材：銅靶、鉬靶、鋁靶、鎢靶；稀土高純金屬材料及半導體高純化合物等高性能材料；產品被應用于OLED柔性顯示、TFT-LCD液晶顯示、集成半導體、晶圓、光學鍍膜、光纖通訊、新能源鋰電池、航空航天等光電子領域。 公司總建筑面積超過2萬平米，建立了材料研發中心、檢測實驗室、并引進美國先進真空中頻感應熔煉爐，真空蒸餾爐、冷坩堝懸浮熔煉爐，真空燒結爐，單晶爐，等各種材料精密加工專業生產設備；有力保證品質穩定和技術優先；易金新材多年來憑借高度的責任感，求真務實的態度，快速反應的服務能力和完善的管理體系，贏得了全球大型OLED、TFT-LCD液晶顯示生產商以及眾多知名光學光電子企業的認可，并建立良好的戰略合作關系。