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商品詳情
，只是離心的徹體力效果，使光阻穩定地、且是呈同心圓狀地向外涂布。日本HD深刻模造術諧波SHF-40-80-2UH? 根據實際使用顯示，GYRSET?只需一般涂布機的55%光阻用量。另外，其也可應用于厚光阻之涂布(厚度自數微米至數百微米不等)。受涂基板也可由晶圓改為任意的工作外型，而不會造成邊緣一大部日本HD深刻模造術諧波SHF-40-80-2UH?份面積厚度不均的花花外貌。
[注]厚光阻是新近發展出來，供微機電研究使用的材料，如IBM的SU-8系列光阻，厚度由數微米至100微米不等，以GYRSET?涂布后，經過嚴格的烘干程序，再以紫外線或準分子雷射(excimerlaser)進行曝光顯影日本HD深刻模造術諧波SHF-40-80-2UH?后，所得到較深遂的凹狀圖案，可供進一步精密電鑄(electro-bing)的金屬微結構成長填塞。這種加工程序又稱為「仿LIGA」制程(poormansLIGA)，即「異步X光之深刻模造術」。
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