四川某大學(xué)實(shí)驗(yàn)室研究靶電流, 偏壓、沉積時(shí)間等各試驗(yàn)工藝參數(shù)對(duì)兩組試樣 AlTiN 涂層力學(xué)性能的影響, 旨在找出能夠鍍制優(yōu)良性能涂層的最佳工藝方案的項(xiàng)目中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源.
伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術(shù)參數(shù):
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型號(hào) |
RFICP140 |
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Discharge |
RFICP 射頻 |
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離子束流 |
>600 mA |
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離子動(dòng)能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
14 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
5-30 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長(zhǎng)度 |
24.6 cm |
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直徑 |
24.6 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
AlTiN 涂層具有高抗氧化性, 良好熱硬性, 摩擦系數(shù)低, 與基體之間結(jié)合力強(qiáng), 耐磨性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn). 因此AlTiN涂層在機(jī)械加工行業(yè),尤其是在刀具領(lǐng)域,一直是研究的熱點(diǎn).
KRI 離子源的獨(dú)特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能, 增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的.
KRI 離子源是領(lǐng)域公認(rèn)的領(lǐng)導(dǎo)者, 已獲得許多專利. KRI 離子源已應(yīng)用于許多已成為行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的過(guò)程中.
伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門(mén), 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.
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