KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 制備高性能光通信帶通濾光膜
光通信的信息載體是光波, 為了進一步提高光通信系統中光信號的傳輸質量, 滿足光通信系統的使用要求, 廣東中山某研究機構采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 制備高性能光通信帶通濾光膜.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術參數:
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離子源型號 |
RFICP220 |
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Discharge |
RFICP 射頻 |
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離子束流 |
>800 mA |
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離子動能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
20 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
10-40 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長度 |
30 cm |
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直徑 |
41 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量
在該研究項目中, 以 Ta2O5 和 SiO2 作為鍍膜材料, 設計了含有 12 個諧振腔的帶通濾光膜, 分析并解決了耦合層膜厚監控的問題.
運行結果:
制備的帶通濾光膜在 1528～1571 nm 處插入損耗小于 0.2 dB, 1470～1521 nm 和 1578～1651 nm 處透射隔離度大于 40 dB, 滿足實際使用要求.
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