KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP380 濺射鍍制 TC4 表面 TiN 涂層
武漢某大學(xué)研究中心為了改善 TC4 表面性能, 采用KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP380濺射鍍制 TC4 表面 TiN 涂層, 提高鈦合金表面耐磨耐腐蝕性能, 提高高溫抗氧性能.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP380 技術(shù)參數(shù):
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射頻離子源型號(hào) |
RFICP380 |
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Discharge 陽(yáng)極 |
射頻 RFICP |
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離子束流 |
>1500 mA |
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離子動(dòng)能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
30 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
15-50 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長(zhǎng)度 |
39 cm |
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直徑 |
59 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
客戶(hù)采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP380 產(chǎn)生離子束不斷轟擊源極靶材和工件, 工件在離子束轟擊下迅速被加熱至高溫, 源極靶材在轟擊作用下濺射出的合金元素不斷奔向工件表面, 經(jīng)沉積擴(kuò)散過(guò)程形成一定厚度的涂層.
運(yùn)行結(jié)果:
1. 具有沉積薄膜速度快, 厚度容易控制等特點(diǎn)
2. 涂層的SEM形貌觀測(cè)顯示涂層均勻, 致密, 無(wú)明顯孔洞缺陷, 涂層厚度約為10um, 過(guò)度層厚度約為3um.
3. 涂層的力學(xué)性能及磨損性能分析顯示, 涂層的臨界載荷達(dá)到81.75N, 遠(yuǎn)遠(yuǎn)滿(mǎn)足工程要求, 涂層與基體結(jié)合良好.
4. 在高溫（500℃）下, TiN的摩擦系數(shù)更穩(wěn)定.
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